工艺关键词:电离惰性气体轰击靶材、靶材脱落沉积冷却成膜
溅镀的原理，是镀膜机腔体抽真空，直接以薄膜材料(靶材)当做电极，利用电极间见通电5KV~15KV产生的电浆轰击靶材，同时通入气体，气体发生离子化，粒子在电浆内移动，离子撞击靶材并使靶材表面原子脱离进而沉积在基板上，冷却浓缩成薄膜。
磁控溅镀
在直流溅镀或射频溅镀的基础上改进电极结构，亦即再把阴极内侧装置一磁铁，并使磁场方向垂直于极暗区电场方向，以便用磁场约束带电粒子的运转，这种溅射法称为磁控溅射。
由于磁场的作用力与电子的运转方向垂直，将形成电子回旋运动的向心力，此时中性物种间的撞击机率提高，始之在较低的压力下即能制作薄膜。
除了低压外，磁控溅射的另两项有优点就是高速，低温，因此也称之为高速低温溅镀法。
但是磁控溅镀也存在一些问题，如就平板磁控电极磁控电极而言，靶材中央及周边不为垂直于电厂的磁场分量越来越小，亦即与靶材表面平行的磁场分量小，使得在靶材表面的一个环形区域被溅射的异常快，而中央和边缘处溅射的少，如此下去便会出现W形侵蚀谷，使的靶材利用率降低，并且可能对薄膜的均匀性产生影响。
除了自然材料以外，适合真空电镀的材料包括金属类材料、软硬塑料（ABS料、ABS+PC料、PC料等等）、复合材料、陶瓷、和玻璃等。常用于真空电镀表面处理的是铝、其次是银和铜。真空电镀所使用设备通常较为高昂，加上工艺流程复杂，对环境要求高；为此真空电镀单价比水电镀昂贵。真空电镀受设备内真空环境体积影响，因此对靶材尺寸有一定的要求，不适合大靶材，常见的真空腔室内靶材应小于1.2 * 1.1m（3.94 * 3.3ft），3D工件应小于1.2 * 0.5m（3.94 * 1.6ft）
理论上所有pvd真空镀膜加工都可以添加运用添加剂，下面咱们来看看电镀中运用添加剂的效果：
1.整平效果
能是基体微粗糙表面变得平坦，下降粗糙度。
2.润湿效果
可下降金属与溶液的界面张力，使镀层与基体能更好附着，使阴极上分出的氢气泡容易脱离，防止生孔。
3.细化晶粒
能改动镀层的结晶状况，细化晶粒使镀层细密，在锌酸盐镀锌液中假如不加添加剂，得到的是海绵状沉积物，参加添加剂以后，镀层细密、详尽而亮光。
4.亮光效果
参加亮光剂并与其他添加剂合作运用，进一步进步镀层亮光度，是装饰性电镀不可或缺的成分。
pvd真空镀膜加工所用到的添加剂还有许多其他效果，如进步镀层硬度、下降镀层应力等。添加剂应选择运用，有的添加剂兼有几种效果，在镀液中一般含有（1——2）种添加剂。目前运用的添加剂首要是有机化合物或合成物，无机化合物也合作运用。
以上信息由专业从事耳机配件真空电镀厂的瑞泓科技于2024/3/26 10:49:02发布
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