1、曝光过度会导致显影不净。
2、曝光能量不足会导致显影过度。
3、实际曝光能量需根据干膜种类、厚度或油墨种类/厚度/烘烤时间确定,正常线路曝光使用能量40 -- 120mj/cm2,油墨曝光能量150-500mJ/cm2,具体以曝光尺为准;
曝光机理:通过紫外光照射,使干膜感光剂中的非聚合状态有机分子桥接成聚合体。·光源:散射光、准平行光、平行光、激光。·设备:手动对位曝光机,半自动对位曝光机,自动曝光机,LDI曝光机,DI曝光机。曝光后的工序是化学显影,显影使潜影显现并固化。工业上很多设备都应用了曝光的原理,将图文信号转移到需要的材料上。显影检验良品率和重新工艺处理率随掩膜水平而变。总体上,在掩膜次序中有较宽的特征图形尺寸、较平的表面和较低的密度,所有这些会使掩膜良品率更高。在晶圆到了关键的接触和连线步骤时,重新工艺处理率会有上升趋势。总体上有四类晶圆上的问题适用于显影检验和终检验,如在图案尺寸(关键尺寸测量)上会有偏差;有定位不准的图案;有表面问题如光刻胶的污染、空洞或划伤及污点和其它的表面不规则。以上信息由专业从事相机壳曝光显影电话的利成感光于2023/4/27 13:45:51发布
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